Semicorex nyedhiyakake macem-macem jinis wafer 4H lan 6H SiC. Kita wis dadi produsen lan pemasok produk silikon karbida sajrone pirang-pirang taun. Substrat SiC tipe N 4 Inch duwe kauntungan rega sing apik lan nutupi sebagian besar pasar Eropa lan Amerika. We look nerusake kanggo dadi partner long-term ing China.
Semicorex duwe garis produk wafer silikon karbida (SiC), kalebu substrat 4H lan 6H kanthi wafer semi-insulating tipe-N, P-jinis lan kemurnian dhuwur, bisa nganggo utawa tanpa epitaksi. Substrat SiC (silikon karbida) 4-inci yaiku jinis wafer kualitas dhuwur sing digawe saka kristal tunggal silikon karbida kanthi doping tipe N.
4 Inch N-jinis SiC Substrat utamané digunakake ing kendaraan energi anyar, transmisi voltase dhuwur lan gardu, barang putih, sepur kacepetan dhuwur, motor listrik, inverter photovoltaic, Penyetor daya pulsed lan kothak liyane, kang duwe kaluwihan saka peralatan ngurangi mundhut energi, nambah linuwih peralatan, nyuda ukuran peralatan lan nambah kinerja peralatan, lan duwe kaluwihan irreplaceable ing nggawe piranti elektronik daya.
barang |
Produksi |
Riset |
goblok |
Parameter Kristal |
|||
Politipe |
4H |
||
Kesalahan orientasi lumahing |
<11-20 >4±0.15° |
||
Parameter Listrik |
|||
Dopan |
Nitrogen tipe n |
||
Resistivity |
0,015-0,025 ohm · cm |
||
Parameter Mekanik |
|||
Dhiameter |
99,5 - 100 mm |
||
kekandelan |
350±25 μm |
||
Orientasi flat utama |
[1-100]±5° |
||
Dawane warata utami |
32,5 ± 1,5 mm |
||
Posisi flat sekunder |
90° CW saka flat primer ±5°. silikon pasuryan munggah |
||
Dawane flat sekunder |
18 ± 1,5 mm |
||
TTV |
≤5 μm |
≤10 μm |
≤20 μm |
LTV |
≤2 μm (5mm * 5mm) |
≤5 μm (5mm * 5mm) |
sing |
gandhewo |
-15μm ~ 15μm |
-35μm ~ 35μm |
-45μm ~ 45μm |
Warp |
≤20 μm |
≤45 μm |
≤50 μm |
Kekasaran ngarep (Si-face) (AFM) |
Ra≤0.2nm (5μm*5μm) |
||
Struktur |
|||
Kapadhetan micropipe |
≤1 ea/cm2 |
≤5 ea/cm2 |
≤10 ea/cm2 |
Kotoran logam |
≤5E10atom/cm2 |
sing |
|
BPD |
≤1500 ea/cm2 |
≤3000 ea/cm2 |
sing |
TSD |
≤500 ea/cm2 |
≤1000 ea/cm2 |
sing |
Kualitas ngarep |
|||
Ngarep |
lan |
||
Rampung lumahing |
Si-face CMP |
||
partikel |
≤60ea/wafer (ukuran≥0.3μm) |
sing |
|
Goresan |
≤2ea/mm. Dawane kumulatif ≤Diameter |
Kumulatif dawa≤2 * Diameter |
sing |
Kulit jeruk / pit / noda / striations / retak / kontaminasi |
ora ana |
sing |
|
Pinggir chip / indents / fraktur / piring hex |
ora ana |
sing |
|
Wilayah politipe |
ora ana |
Area kumulatif≤20% |
Area kumulatif≤30% |
Tandha laser ngarep |
ora ana |
||
Kualitas mburi |
|||
Rampung mburi |
C-pasuryan CMP |
||
Goresan |
≤5ea/mm, Kumulatif length≤2*Diameter |
sing |
|
Cacat mburi (keripik pinggir / indentasi) |
ora ana |
||
Kekasaran mburi |
Ra≤0.2nm (5μm*5μm) |
||
Tandha laser mburi |
1 mm (saka pinggir ndhuwur) |
||
Pinggir |
|||
Pinggir |
Chamfer |
||
Kemasan |
|||
Kemasan |
Kanthong njero diisi nitrogen lan kantong njaba disedot. Kaset multi-wafer, epi-siap. |
||
* Cathetan: "NA" tegese ora ana panjaluk. |