Wafer Carriers karo SiC Coating

Pembawa Wafer Semicorex kanthi Lapisan SiC nampilake stabilitas termal lan konduktivitas termal sing luar biasa, penting kanggo njaga suhu sing konsisten sajrone proses deposisi uap kimia (CVD). Iki njamin distribusi panas seragam ing substrat, sing penting kanggo entuk film tipis lan karakteristik lapisan sing berkualitas.

Pembawa Wafer kanthi Lapisan SiC diprodhuksi kanthi standar sing tepat, njamin ketebalan seragam lan lancar permukaan. Presisi iki penting kanggo nggayuh tingkat deposisi sing konsisten lan sifat film ing pirang-pirang wafer.

Lapisan SiC tumindak minangka penghalang impermeable, nyegah panyebaran impurities saka susceptor menyang wafer. Iki nyuda resiko kontaminasi, sing penting kanggo ngasilake piranti semikonduktor kanthi kemurnian dhuwur. Daya tahan Pembawa Wafer Semicorex kanthi Lapisan SiC nyuda frekuensi panggantos susceptor, ndadékaké biaya pangopènan sing luwih murah lan nyuda downtime ing operasi manufaktur semikonduktor.

Pembawa Wafer Semicorex kanthi Lapisan SiC bisa disesuaikan kanggo nyukupi syarat proses tartamtu, kalebu variasi ukuran, wujud, lan ketebalan lapisan. Keluwesan iki ngidini kanggo ngoptimalake susceptor kanggo cocog karo panjaluk unik saka proses fabrikasi semikonduktor beda. Opsi kustomisasi mbisakake pangembangan desain susceptor sing disesuaikan kanggo aplikasi khusus, kayata manufaktur utawa riset lan pangembangan volume dhuwur, njamin kinerja optimal kanggo kasus panggunaan tartamtu.