Plate Planet Plate TAC

Piring Planet Planorex Tac dilapisi minangka komponen utama ing reaktor mocvd, nampilake desain planet sing ditondoi kanthi kanthong wafer sing diatur ing sadawane permukaan. Kanthong kasebut digawe khusus kanggo bisa nampani wafer sajrone tahap wutah saka lapisan epitrate lan minimalake gerakan substrat ing suhu proses pangkat. Geometri sing tepat nyedhiyakake penempatan wafer sing konsisten sing penting kanggo kekandelan saka lapisan epitoxial lan tingkat seragam saka cacat kanggo kabeh wafers sing ditandur sajrone proses sing padha.

Aspek desain penting saka plate planet, sepisan maneh, minangka panyebaran sing direkayun saka bolongan aliran gas sing apik ing sadawane piring. Bolongan kasebut dirancang kanthi ati-ati lan strategis khusus kanggo meter aliran gas prekursor ing reaktor, saéngga penyebaran gas seragam lan malah deposisi diraih. Ing proses mocvd, aspek dinamika gas kritis ing nentokake sifat film, keseranan ketebalan, lan kinerja piranti sakabehe. Desain bolongan sing dioptimalake ingTac ditutupiPiring planet njamin kabeh wafers ngalami kahanan proses sing padha, sing menehi cara sing paling optimal kanggo nambah ngasilake lan reproducibility.

TheTAC (tantalum karbida) lapisanLuwih saka kinerja lan urip plate planet. Tantalum karbida banget, kimia iner, lan konduktif, nggawe lapisan sing apik banget kanggo lingkungan mocvd ekstrem. Sajrone epitexy, komponen ing reaktor bakal nemoni suhu sing dhuwur, lan gas prektur precursor, lan cahya plasma. Pelapisan TAC kasebut dadi alangan sing kuat kanggo korosi, oksidasi, lan generasi partikel kanggo nambahi plate plate sing signifikan tinimbang plato sing dilapisi utawa konvensional.

Tapi planevity sing dilapisi TAC dilapisi lan tahan daya tahan sing dilapisi kanthi biaya kanggo sistem mocvd. Lapisan Tac sing awet bisa tahan muter-muter termal lan ekspresi gas ekstrem nalika njaga integritas struktural lan stabilitas kinerja nalika operasi luwih lengkap.