Susceptors kanggo Reaktor MOCVD

Susceptors Semicorex kanggo Reaktor MOCVD minangka produk berkualitas tinggi sing digunakake ing industri semikonduktor kanggo macem-macem aplikasi kayata lapisan silikon karbida lan semikonduktor epitaksi. Produk kita kasedhiya ing bentuk gear utawa dering lan dirancang kanggo entuk resistensi oksidasi suhu dhuwur, dadi stabil ing suhu nganti 1600°C.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Susceptors kanggo Reaktor MOCVD digawe dening deposisi uap kimia CVD ing kondisi klorinasi suhu dhuwur, njamin kemurnian dhuwur. Lumahing prodhuk iku kandhel, kanthi partikel sing apik lan kekerasan sing dhuwur, dadi tahan korosi kanggo asam, alkali, uyah, lan reagen organik.
Susceptors kanggo Reaktor MOCVD dirancang kanggo njamin lapisan ing kabeh permukaan, ngindhari peeling, lan entuk pola aliran gas laminar sing paling apik. Prodhuk njamin kerataan profil termal lan nyegah kontaminasi utawa panyebaran impurities sajrone proses kasebut, njamin asil sing bermutu.
Ing Semicorex, kita prioritasake kepuasan pelanggan lan menehi solusi sing efektif biaya. We look nerusake kanggo dadi partner long-term Panjenengan, ngirimke produk kualitas lan layanan customer ngédap.

Parameter Susceptors kanggo Reaktor MOCVD

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur Kristal	Fase FCC Î²
Kapadhetan	g/cm³	3.21
Kekerasan	kekerasan Vickers	2500
Ukuran gandum	Î¼m	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas panas	J·kg-1 ·K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuwatan Felexural	MPa (RT 4-titik)	415
Modulus Young	Gpa (4pt bend, 1300â)	430
Ekspansi Termal (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300

Fitur SiC Coated Graphite Susceptor kanggo MOCVD

- Aja peeling lan mesthekake lapisan ing kabeh permukaan
Tahan oksidasi suhu dhuwur: Stabil ing suhu dhuwur nganti 1600 ° C
Kemurnian dhuwur: digawe dening deposisi uap kimia CVD ing kondisi klorinasi suhu dhuwur.
Ketahanan korosi: kekerasan dhuwur, permukaan sing padhet lan partikel sing apik.
Tahan korosi: asam, alkali, uyah lan reagen organik.
- Entuk pola aliran gas laminar sing paling apik
- Njamin evenness saka profil termal
- Nyegah sembarang kontaminasi utawa difusi impurities