Piring serat carbide etp

Piring serat carbide etpKompeten kanggo ngirim dhukungan stabil lan posisi sing tepat kanggo wafers ing operasi etching, kanthi efisien nyegah precision etching sing digawa kanthi geter utawa pamindahan.

Piring serat carbide etp duwe kapabilitas manajemen termal.suirus accactivity sakaKeramik SICMenehi piring serbides icp etp bisa nyiram panas, sing mbantu nyegah merata banyu lan njamin keseragaman suhu etching, saengga bisa nambah kualitas etching. Keramik SIC duwe koefisien ekspansi termal, sing ngidini plate silikon karbida icp kanggo njaga stabilitas dimensi sing apik lan nyuda pamindahan sing apik utawa cacat sing disebabake dening ekspansi termal.

Ngrungokake babagan kekerasan lan properti sing apik banget, silikon karbida icp etch plate nuduhake kemampuan kanggo ngidinke stres lan pengaruh plasma sing ditemoni sajrone proses etching utawa karusakan minimal. Kemampuan iki kanthi efektif nambah ngasilake asil lan efisiensi piranti semikonduktor.

Lingkungan operasi ICP mbutuhake kabersihan tingkat semikonduktor. Plato silikon silikon silikon silikon karbida bisa ngrampungake syarat-syarat iki, ngirim resistensi sing luar biasa kanggo gas kimia (kayata klorin lan fluorine) lan plasma lingkungan etp etc. Fitur penting iki supaya lingkungan proses kanthi resik kanthi nyuda jumlah kontamin sing dirilis sajrone operasi etching.

Semikoreks prioritize penak, nawakake desain sing disesuaikan karo piring serat Carchon sing kanthi lancar nggabungake karo sistem etpl icp sing wis ana lan kompatiasi karo macem-macem konfigurasi. Iki ngidini transisi lancar, nggawe solusi upgrade sing cocog kanggo produsen peralatan.