Pemanas Proses Wafer

Pemanas Proses Wafer Semicorex digawe dening Silicon Carbide Coating (SiC) grafit, lapisan kasebut ditrapake kanthi metode CVD kanggo gelar spesifik grafit kapadhetan dhuwur, saengga bisa digunakake ing tungku suhu dhuwur kanthi luwih saka 3000 ° C ing atmosfer inert, 2200 ° C ing vakum.
Sifat khusus lan massa kurang saka materi Wafer Proses Pemanas ngidini tarif panas cepet, distribusi suhu seragam lan tliti pinunjul ing kontrol. Dibandhingake karo materi liyane, permukaan Silicon Carbide tetep warata amarga ekspansi termal sing sithik sanajan dioperasikake kanthi cepet ing suhu. Piring panas cocok banget kanggo proses nuntut ing sistem pangolahan semikonduktor.
Ing Semicorex, kita fokus nyedhiyakake produk sing berkualitas tinggi lan biaya-efektif kanggo para pelanggan. Pemanas Proses Wafer kita duwe kauntungan rega lan diekspor menyang pasar Eropa lan Amerika. Kita ngarahake dadi mitra jangka panjang, ngirim produk kualitas sing konsisten lan layanan pelanggan sing luar biasa.

Parameter Pemanas Proses Wafer

Fitur Pemanas Proses Wafer

- lapisan CVD SiC kanggo nambah urip layanan.
- Resistance suhu dhuwur, tahan korosi, umur layanan dawa, bisa nambah kualitas wafer lan ngasilake.
- Nduwe koefisien ekspansi termal sing sithik, tahan suhu dhuwur, resistensi nyandhang dhuwur, insulasi sing apik, stabilitas kimia sing apik, lan penetrasi cahya sing katon meh ungu (abang).

Kita bisa nyedhiyani anti-oksidasi lan umur dawa span grafit crucible, jamur grafit lan kabeh bagean saka mesin ingkang ndamel benter grafit.