Penyusuhan Wafer SIC ditutupi

Penyusuhan Wewal Wewual Sikumoreks Coated dirancang kanggo nyukupi syarat-syarat mencet kanggo ngasilake sistem semikonduktor sing maju, utamane ing sistem pemanasan film Ultrathin Tessessless. Disedhiyakake, dheweke nyedhiyakake kinerja termal sing unggul, daya kimia, lan stabilitas mekanik kanthi lingkungan generasi sabanjure kanggo pangolahan film tipis.

Ing teknik deposisi sing ora ngetrapake tekanan, kayata deposisi mundhak atom (ALD), Dependisi uap atom (CVD), lan Dependaran uap fisik, syarat utama yaiku distribusi suhu seragam lan stabilitas permukaan. Keunikan desain susceptor kita ana ing kasunyatan manawa kalebu substrat keropoki sing dhuwur saka murni sing ngidini bisa digunakake kanthi efektif ing stres vacuum utawa cedhak karo stres termal lan menehi transfer energi seragam kanthi permukaan wafer.

Struktur multi-bolongan minangka inovasi utama: mbantu nyuda massa termal, promosi uga distribusi aliran gas, lan nyuda urusan tekanan gas sing bisa uga komprangan pendhudhuk. Struktur iki uga nyumbang siklus rampokan termal lan cooldown, nambah throughput sakabèhé lan kontrol proses.

We nawakake macem-macem ukuran susceptor, geometri, lan tingkat keruritas kanggo cocog karo macem-macem desain sistem pemilihan lan dimensi wafer. Sifat modular proses manufaktur ngidini kanggo kustomisasi kanggo nyukupi syarat termal, mekanik, lan kimia sing spesifik proses film tipis klien klien.

Susceptor Wewual Sikalter Sicorex SIC ditutupi Susceptor minangka solusi sing cocog karo tantangan film sing unik sing unik. Gabungan desain struktural sing keropos lan lapisan sic sing kuwat nyedhiyakake dhukungan sing paling apik kanggo proses manufaktur semikonduktor kanthi dhuwur, mbisakake kualitas film sing luwih apik, ngasilake sing luwih dhuwur, lan biaya operasional sing luwih murah.