Pembawa Penanganan PSS kanggo Transfer Wafer

Pembawa Penanganan PSS Semicorex kanggo Transfer Wafer dirancang kanggo aplikasi peralatan epitaksi sing paling nuntut. Pembawa grafit ultra-murni kita bisa tahan lingkungan sing atos, suhu dhuwur, lan reresik kimia sing atos. Operator sing dilapisi SiC nduweni sifat distribusi panas sing apik, konduktivitas termal sing dhuwur, lan biaya-efektif. Produk kita akeh digunakake ing akeh pasar Eropa lan Amerika, lan kita ngarep-arep dadi mitra jangka panjang ing China.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Pembawa Penanganan PSS kanggo Transfer Wafer saka Semicorex dirancang kanggo nyukupi syarat reresik kimia suhu dhuwur lan kasar kanggo proses pangolahan epitaxial lan penanganan wafer. Pembawa grafit ultra-murni kita cocog kanggo fase deposisi film tipis kaya MOCVD, susceptor epitaksi, platform pancake utawa satelit, lan pangolahan penanganan wafer kayata etsa. Operator sing dilapisi SiC nduweni sifat distribusi panas sing apik, konduktivitas termal sing dhuwur, lan biaya-efektif.

Hubungi kita dina iki kanggo sinau luwih lengkap babagan Pembawa Penanganan PSS kanggo Transfer Wafer.

Parameter Pembawa Penanganan PSS kanggo Transfer Wafer

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur Kristal	Fase β FCC
Kapadhetan	g/cm³	3.21
Kekerasan	kekerasan Vickers	2500
Ukuran gandum	μm	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas panas	J kg-1 K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuwatan Felexural	MPa (RT 4-titik)	415
Modulus Muda	Gpa (4pt bend, 1300 ℃)	430
Ekspansi Termal (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300