Silicon Carbide Wafer Boats: "Wali wafer sing ora katon" ing Semikonduktor

Ing manufaktur semikonduktor, oksidasi kalebu nempatake wafer ing lingkungan suhu dhuwur ing ngendi oksigen mili ngliwati permukaan wafer kanggo mbentuk lapisan oksida. Iki nglindhungi wafer saka impurities kimia, ngalangi arus bocor saka ngetik sirkuit, ngalangi difusi sak implantasi ion, lan ngalangi wafer slippage sak etching, mbentuk film protèktif ing lumahing wafer. Peralatan sing digunakake ing langkah iki yaiku tungku oksidasi. Komponen utama ing ruang reaksi kalebu kapal wafer, pangkalan, tabung liner tungku, tabung tungku njero, lan baffle insulasi panas. Amarga suhu operasi sing dhuwur, syarat kinerja kanggo komponen ing kamar reaksi uga dhuwur.

Kapal wafer digunakake minangka operator kanggo transportasi lan pangolahan wafer. Sampeyan kudu nduweni kaluwihan kayata integrasi dhuwur, linuwih dhuwur, sifat anti-statis, tahan suhu dhuwur, tahan nyandhang, tahan deformasi, stabilitas sing apik, lan umur layanan sing dawa. Wiwit suhu oksidasi wafer kira-kira antarane 800 ℃ lan 1300 ℃, lan syarat kanggo isi impurities metallic ing lingkungan banget ketat, komponen tombol kayata wafer boat kudu ora mung duwe banget termal, mechanical, lan kimia, nanging uga duwe isi impurity metallic banget kurang.

Adhedhasar substrate, kapal wafer bisa diklasifikasikake minangka kapal kristal kuarsa,Keramik silikon karbidawafer boats, etc Nanging, karo advancement saka proses kelenjar ngisor 7nm lan expansion saka windows proses suhu dhuwur, prau kuarsa tradisional sing mboko sithik dadi cupet ing syarat-syarat stabilitas termal, kontrol partikel, lan Manajemen umur. Perahu silikon karbida (kapal SiC) mboko sithik ngganti solusi kuarsa tradisional.

kokSilicon Carbide Kab?

1. Stabilitas Suhu Dhuwur

Stabilitas suhu dhuwur minangka kauntungan paling penting saka kapal SiC. Padha nuduhake sakbenere ora ewah-ewahan bentuk utawa sagging sanajan ing suhu dhuwur banget (> 1300 ° C), njaga posisi slot wafer pas liwat wektu lengkap.

2. Umur Ultra-Long

A prau siji pamer kapasitas mbukak-prewangan dhuwur, saged ndhukung Welasan kanggo atusan wafer 12-inch bebarengan. Dibandhingake karo prau kuarsa tradisional, prau SiC nawakake umur rata-rata 5-10 kaping luwih suwe, nyuda frekuensi ganti peralatan lan total biaya kepemilikan.

3. Lumahing resik lan Kontaminasi Banget Low

Kemurnian materi sing dhuwur lan isi impurity metalik sing sithik banget nyegah kontaminasi sekunder wafer silikon. Kontrol kekasaran permukaan sing apik banget, kanthi Ra ing ngisor 0.1μm, nyuda partikel partikel lan nyukupi syarat kebersihan proses maju.

4. Cocog kanggo Proses Suhu Ultra-High

Kanggo proses sing mbutuhake suhu ing ndhuwur 1200 ° C (kayata proses oksidasi film kandel khusus tartamtu, fabrikasi piranti SiC, utawa proses ngisi trench jero), prau SiC minangka pilihan sing ora bisa diganti.

Aplikasi sakaKapal Silicon Carbide Kab

Produksi Semikonduktor

Ing proses suhu dhuwur manufaktur chip, kayata oksidasi, difusi, deposisi uap kimia (CVD), lan implantasi ion, prau silikon karbida digunakake kanggo ndhukung wafer silikon, njamin flatness ing suhu dhuwur lan nyegah misalignment kisi utawa deformasi sing disebabake dening stres termal, saéngga njamin presisi lan kinerja chip.

Industri Photovoltaic

Keramik silikon karbidanduweni kekuatan mekanik banget, stabilitas termal, resistance suhu dhuwur, resistance oksidasi, resistance kejut termal, lan resistance karat kimia, nggawe wong akeh digunakake ing lapangan populer kayata metalurgi, mesin, energi anyar, lan bahan kimia bahan bangunan. Kinerja kasebut uga cukup kanggo proses termal ing manufaktur fotovoltaik, kayata difusi, LPCVD (deposisi uap kimia tekanan rendah), lan PECVD (deposisi uap kimia plasma) kanggo sel TOPcon. Dibandhingake karo bahan kuarsa tradisional, bahan keramik silikon karbida sing digunakake kanggo nggawe dhukungan prau, prau cilik, lan produk tubular menehi kekuatan sing luwih dhuwur, stabilitas termal sing luwih apik, lan ora ana deformasi ing suhu dhuwur. Umure uga luwih saka kaping lima luwih saka kuarsa, kanthi signifikan nyuda biaya operasi lan mundhut energi amarga downtime pangopènan. Iki nyebabake keuntungan biaya sing jelas, lan bahan mentah kasedhiya.

Semikonduktor Generasi Katelu

Ing kamar reaksi uap kimia logam-organik (MOCVD), kapal silikon karbida digunakake kanggo ndhukung substrat sapir, tahan lingkungan gas korosif kayata amonia (NH3), ndhukung pertumbuhan epitaxial bahan semikonduktor generasi katelu kayata gallium nitride (GaN), lan ningkatake efisiensi chip LED. Ing wutah kristal tunggal silikon karbida, prau silikon karbida dadi dhukungan kristal wiji ing tungku pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida, tahan lingkungan korosif suhu dhuwur saka silikon molten, nyediakake dhukungan sing stabil kanggo pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida, lan promosi persiapan kristal tunggal silikon karbida sing berkualitas tinggi.

Tren Pengembangan Kapal Wafer Silicon Carbide Kab

Ing babagan pasar, miturut data SEMI, ukuran pasar kapal wafer global kira-kira US $ 1.4 milyar ing 2025 lan dijangkepi bakal tekan US $ 1.8 milyar ing 2028. Kanthi asumsi tingkat penetrasi silikon karbida 20% lan pangsa pasar siji-katelu ing China (data saka Asosiasi Industri Semikonduktor China lan US $ 6.62 yuta), ukuran pasar China $ 6.62 yuta.

Secara teknologi, silikon karbida nduweni koefisien ekspansi termal sing luwih dhuwur tinimbang kuarsa, saengga luwih rentan kanggo retak ing aplikasi. Mula, teknologi cetakan terintegrasi dipromosikan ing manufaktur kanggo nyuda lapisan lan nyuda resiko partikel partikel. Salajengipun, ngoptimalake desain alur waos wafer kang, digabungake karo mesin limang sumbu lan teknologi nglereni kabel, njamin tliti lan Gamelan penanganan wafer.

Semicorex nawakake kualitas dhuwurSilicon Carbide Kab Wafer Boats. Yen sampeyan duwe pitakon utawa butuh rincian tambahan, aja ragu-ragu hubungi kita.

Kontak telpon # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com