Wafer ltoi

Semikorex nawakake wafer LTOI sing berkualitas tinggi, dirancang kanggo aplikasi sing canggih ing filter RF, piranti optik, lan teknologi mss. Waffe kita duwe lapisan lithium tantalate (lt) kanthi jarak ketebalan 0.3-50 μm, njamin kinerja piezoelectrik sing luar biasa lan stabilitas termal.

Kasedhiya kanthi ukuran 6 inci lan 8 inci, wafers iki ndhukung macem-macem orientasi kristal, kalebu X, Z, lan lan Y-42 ngethok, nyedhiyakake keahlian kanggo macem-macem syarat kanggo macem-macem syarat. Substrat Insulating bisa disesuaikan kanggo Siic, Sic, Sapphire,

 Spinel, utawa Quartz, ngoptimalake kinerja kanggo aplikasi khusus.

Lithium Tantalate (LT, Lita3) Crystal minangka bahan kristal multifungsi penting kanthi piezoelektrik, efek ferroelektrik, acusto-optik lan electro. Kristal lt kristal sing bisa digunakake kanggo aplikasi piezoelektrik bisa digunakake kanggo nyiyapake resonator akustik broadband kanthi frekuensi, transducer, komunikasi silitasi, sing digunakake ing komunikasi, sinar-televisi, uga countermeasur elektronik, sekring lan lapangan militer liyane.

Piranti & Sponf Wave Gelombang Akustik (saw) sing disiapake ing blok kristal LT, lan piranti kasebut gedhe lan ora kompatibel karo proses CMOS. Panganggone piezoelektrik piezoelektrik sing dhuwur saka film tipis crystal minangka pilihan sing apik kanggo nambah integrasi piranti sing weruh lan nyuda biaya. Piranti ndeleng film piezoelektrik tunggal kristal tunggal kristal ora mung bisa nambah kemampuan integrasi piranti kanthi nggunakake silikon, nanging uga nambah kacepetan silikon swara kanthi milih substrat sing dhuwur-dhuwur utawa inten. Substrat kasebut bisa nyuda ombak ing transmisi kanthi nuntun energi ing lapisan piezoelektrik. Pramila milih proses film piezoelektrik sing bener yaiku faktor utama kanggo entuk kinerja sing dhuwur, murah, lan piranti weruh sing terpadu banget.

Supaya bisa nyukupi kebutuhan generasi generasi sabanjure Paielectricric kanggo integrasi, miniaturisasi, frekuensi tinggi, lan teknologi ikatan waja sing digabungake ing insulator (ltoi wafer), sing nyedhiyakake Solusi lan solusi anyar kanggo pangembangan piranti pangolahan signal sinyal RF murah lan murah. LTOI minangka teknologi revolusioner. Piranti ndeleng adhedhasar wafer LTOI duwe kaluwihan ukuran cilik, bandwidth gedhe, frekuensi sing dhuwur, lan integrasi sing luwih akeh, lan duwe prospek aplikasi pasar sing amba.

Teknologi kristal ion implantation stripping (cis) bisa nyiyapake bahan film tipis tunggal kristal tunggal kanthi berkualitas kanthi ketebalan submicron, lan duwe kaluwihan proses persiapan sing bisa dikendhaleni, paramèter proses sing bisa diatur kayata dosis proses ion, lan suhu anneelasi. Minangka teknologi CIS Matures, teknologi sing cerdas adhedhasar teknologi CIS lan teknologi ikatan wafer ora mung bisa nambah asil bahan substrat, nanging uga luwih nyuda biaya kanggo macem-macem panggunaan. Gambar 1 yaiku diagram skematis ion implantasi ion lan ikatan wafer lan peeling. Teknologi cerdas cut pisanan dikembangake dening Sitec ing Prancis lan ditrapake kanggo persiapan silikon-insulator (soi) sing bermutu tinggi (SOI). Teknologi cerdas cut ora mung bisa ngasilake wafer Soi sing berkualitas kanthi kualitas tinggi lan murah, nanging uga ngontrol kekandelan ing lapisan insulasi kanthi ngganti energi ion. Mula, duwe kaunggulan kuwat kanggo nyiapake bahan soi. Kajaba iku, teknologi sing cerdas uga duwe kemampuan kanggo mindhah macem-macem film Crystal siji kanggo macem-macem. Iki bisa digunakake kanggo nyiapake kanggo nyiapake bahan film tipis multilayer kanthi fungsi lan aplikasi khusus, kayata nggawe film ing film sing paling dhuwur ing silikon (SI). Mula, teknologi iki wis dadi cara sing efektif kanggo nyiyapake film Crystal Tunggal sing berkualitas tinggi.