TaC Coating Upper Halfmoon

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon minangka komponen sing dirancang khusus sing dirancang kanggo entuk proses epitaxial kanthi efisiensi dhuwur ing bidang produksi semikonduktor. Potongan TaC Coating Upper Halfmoon dirancang kanggo pas karo reaktor epitaxial, nyedhiyakake daya tahan lan stabilitas sing luar biasa ing kahanan sing ekstrim.

Lapisan TaC nawakake tahan banget kanggo suhu sing dhuwur, nggawe TaC Coating Upper Halfmoon cocog kanggo lingkungan termal proses epitaxial sing nuntut. Iki njamin kinerja sing konsisten lan umur dawa, nyuda frekuensi panggantos lan downtime. TaC Coating Upper Halfmoon bisa tahan gas korosif lan bahan kimia sing umum digunakake ing pertumbuhan epitaxial, nglindhungi integritas komponen lan njaga kemurnian proses kasebut.

Lapisan TaC sing mulus lan seragam nambah kualitas lapisan epitaxial kanthi nyuda cacat lan impurities. Iki nyumbang kanggo tingkat asil sing luwih dhuwur lan sifat elektronik sing unggul saka piranti semikonduktor. Kombinasi saka resistance termal lan kimia ngluwihi umur operasional saka TaC Coating Upper Halfmoon, nyediakake solusi biaya-efektif kanggo njaga throughput dhuwur lan efisiensi ing fabrikasi semikonduktor.

Aplikasi:

Proses Deposisi Uap Kimia Suhu Dhuwur (CVD).

Silicon Carbide (SiC) lan Gallium Nitride (GaN) Epitaxy

Spesifikasi Teknis:

Bahan: Tantalum Carbide (TaC) Coating

Kisaran Suhu: Nganti 2200°C

Resistance Kimia: Banget marang HF, HCl, lan gas korosif liyane

Ukuran: Customizable pas karo model reaktor tartamtu

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon minangka komponen penting kanggo nggayuh lapisan epitaxial berkualitas kanthi efisiensi sing luwih apik lan nyuda risiko kontaminasi. Sifat material sing canggih lan teknik sing tepat ndadekake aset kasebut dadi aset penting ing industri semikonduktor, ndhukung produksi piranti elektronik generasi sabanjure.