Tabung Silicon Nitride Kab

SemicorexSilicon Nitride Kab KabTabung direkayasa kanggo nyedhiyakake tingkat perlindungan lan daya tahan elit ing ngendi bahan tradisional kaya alumina, kuarsa, lan wesi tuang gagal. Kanthi pangembangan teknologi ilmiah modern, kondisi panggunaan komponen saya tambah serius, kayata suhu dhuwur, karat sing kuwat. Dadi, panjaluk sing luwih dhuwur babagan riset lan aplikasi bahan anyar. Materi logam tradisional angel nyukupi syarat spesifikasi materi teknologi sing saiki berkembang, kanthi kekirangan tahan suhu dhuwur lan tahan korosi. Mulane, bahan anyar dibutuhake kanthi cepet. Amarga bahan keramik bisa ngatasi kekurangan bahan tradisional, mula narik kawigaten para peneliti. Liwat kerja keras, kemajuan gedhe wis digawe ing riset babagan proses persiapan lan kinerja keramik, utamane kinerja unggul keramik Si3N4, sing wis diakoni sacara luas.

Silicon Nitride KabTabung minangka bahan struktural sing penting banget, minangka zat kekerasan sing dhuwur, uga nduweni sifat pelumas lan tahan nyandhang; kajaba asam hidrofluorat, ora bereaksi karo asam anorganik liyane, nduweni ketahanan korosi sing kuat, lan tahan kanggo oksidasi ing suhu dhuwur. Kajaba iku, bisa tahan guncangan termal; ora bakal pecah sanajan dipanasake nganti luwih saka 1000 ° C ing udhara, banjur digawe adhem kanthi cepet lan banjur digawe panas maneh kanthi cepet.

Sipat unggul saka Silicon Nitride Tubes ndadekake wong-wong mau utamané terkenal ing suhu dhuwur, kacepetan dhuwur, lan lingkungan kerja Highly korosif sing kerep ditemoni ing teknologi modern. Iki nyebabake aplikasi kasebut ing pirang-pirang lapangan lan akeh panggunaan potensial. Ing industri mesin, digunakake minangka bilah turbin, bantalan suhu dhuwur, lan alat pemotong kanthi kacepetan dhuwur; ing industri metalurgi, digunakake minangka komponen ing peralatan termal kayata crucibles, burner, lan lapisan sel elektrolisis aluminium; ing industri kimia, padha digunakake minangka bagean karat-tahan lan nyandhang-tahan, kayata klep werni, awak pump, lan vaporizers burner; lan ing industri semikonduktor, aerospace, lan energi nuklir, digunakake minangka kapasitor film tipis, insulator suhu dhuwur, radar radar, penyangga lan pemisah ing reaktor nuklir, lan operator bahan fisi nuklir.

Parameter kinerja

Kapadhetan (g/cm3) >3,2g/cm3

Porositas semu (%) <0,3%

Rockwell Hardness (HRA) >93

Suhu Layanan Maksimum ing Udara (°C) 1400

Suhu Layanan Maksimum ing Atmosfer Protèktif (°C) 1800

Energi lumahing ing Break (20°C)/(J/m2) 133

Kekuwatan lentur (MPa) 986 (20°C), 485 (1400°C)

Kalor Spesifik (J/g·K) 0,71

Rasio Poisson (20°C) 0,290

Konduktivitas Termal [W/(m·K)] 28.8

Difusivitas Termal (300°C)/(cm2/s) 0,690

Resistivitas (Ω·m) 1,4x10⁵(20 ℃), 4x10⁸(1050 ℃)