SiC Wafer Tray

Semicorex SiC Wafer Tray minangka aset penting ing proses Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), dirancang kanthi tliti kanggo ndhukung lan panas wafer semikonduktor sajrone langkah penting saka deposisi lapisan epitaxial. Baki iki integral kanggo manufaktur piranti semikonduktor, ing endi presisi pertumbuhan lapisan sing paling penting. Kita ing Semicorex darmabakti kanggo nggawe lan nyuplai SiC Wafer Tray kanthi kinerja dhuwur sing nggabungake kualitas kanthi efisiensi biaya.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Semicorex SiC Wafer Tray, Berfungsi minangka unsur kunci ing piranti MOCVD, nahan lan ngatur substrat kristal tunggal kanthi termal. Karakteristik kinerja sing luar biasa, kalebu stabilitas termal sing unggul lan keseragaman uga nyegah karat lan liya-liyane, penting kanggo pertumbuhan bahan epitaxial sing bermutu. Atribut kasebut njamin keseragaman lan kemurnian sing konsisten ing lapisan film tipis.

Ditingkatake kanthi lapisan SiC, tray wafer SiC nambah konduktivitas termal kanthi nyata, nggampangake distribusi panas sing cepet lan malah penting kanggo pertumbuhan epitaxial sing seragam. Kemampuan tray wafer SiC kanggo nyerep lan ngetokake panas kanthi efisien njaga suhu sing stabil lan konsisten, penting kanggo deposisi film tipis sing tepat. Distribusi suhu seragam iki kritis kanggo ngasilake lapisan epitaxial sing berkualitas tinggi, sing penting kanggo kinerja piranti semikonduktor canggih.

Kinerja sing dipercaya lan umur dawa SiC Wafer Tray nyuda frekuensi panggantos, nyuda biaya downtime lan pangopènan. Konstruksi sing kuat lan kapabilitas operasional sing unggul nambah efisiensi proses, saengga nambah produktivitas lan efektifitas biaya ing manufaktur semikonduktor.

Kajaba iku, Semicorex SiC Wafer Tray nuduhake resistensi banget kanggo oksidasi lan karat ing suhu dhuwur, luwih njamin daya tahan lan linuwih. Daya tahan termal sing dhuwur, sing ditandhani karo titik leleh sing signifikan, bisa tahan kahanan termal sing ketat sing ana ing proses fabrikasi semikonduktor.