Mobil SIC kanggo ICP

Carrier Sic Sikus kanggo ICP minangka sing duwe wafer wafer sing dhuwur kanggo grafit Sic-Coated, sing dirancang khusus kanggo digunakake ing sistem plasma (ICP) kanthi gampang digandhengake kanthi gampang. Pilih semindoreks kanggo kualitas grafit anisotropik sing nduwe pengaruh ing jagad iki, manufaktur cilik-kelompok sing tliti, lan komitmen sing ora kompromi kanggo kesucian, konsistensi, lan proses proses. *

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Engineered kanggo nyukupi panjaluk sing ora kompromi (ICP) lan alat pemendakan modern, operator grafit sing ditutupi semikoreksik kanggo ICP kanthi tahan plasma lan stabilitas termal lan stabilitas. Ing inti kasebut ana landasan grafitarion, cilik-cilik orientasi kristal dikontrol kanggo ngasilake prilaku anisotropik sing luar biasa: Nalika path kanthi plancongan sing luar biasa, dene path ing pesawat tetep kanthi sengaja. Manajemen aliran panas sing ditembungi kanggo saben mati ing saben taun 150mm nganti 300mm nganti 300mm kanggo peralatan seragam sing seragam, kesetaraan negara sing seragam, langsung nerjemahake menyang distrik-dimensi sing sempit (langsung ngasilake piranti sing luwih dhuwur lan piranti sing luwih dhuwur.

Bungkus ing grafit Ultra-murni iki minangka lapisan conforal-karbida crodosit sing disimpen ing tungku CVD suhu dhuwur. Pelapisan SIC nganti 2,000 ° C lan ngegungake keruwetan micro-kurang saka 0.1% -forme tameng, radikal chlorine sing ora ana gandhengane ing kapinteran ICP sing dhuwur banget. Tes kahanane dawa ing CF₄ / o₂, klik / bclę lan He Plasmas ing ngisor 0.3μmper100hours, ngluwihi layanan pelayanan operator lan nyuda pencegahan pendirian kanthi drastis.

Ukuran dimensi padha ora bisa dikendhaleni: lumahing flatness dikendhaleni ing ± 5μm ing saindenging wilayah pickeded, dene fitur pengecualian laser kanggo nglindhungi perimeter wafer saka mikro-pass. Toleransi sing kenceng, ditambah karo atose-Diamond Celana Sic Celana, mbalikke generasi partikel ing clucking mekanik lan muter-muteran listrik elektrostatik-chuck, njaga kontaminasi killer. Kanggo reaktor ICP sing dhuwur-dhuwur, resettivitas listrik sing murah (<40μω · M) ningkatake stabilisasi pesawat RF kanthi cepet, minimalake fluktuasi sarjana sing bisa digunakake utawa bisa ngrusak micro-masking.

Saben klompok saka operator semikoreks sing nduwe pemetaan logam-ramalologis kanthi lengkap kanggo verifikasi alignment kristal sing lengkap, Sem Cross-Bensying kanggo konfirmasi integritas lapisan SIC, lan analisis gas sing cocog kanggo netra ambang khusus Ppm-level. Amarga kita negesake produksi mikro (kurang saka 20 potongan saben roto), grafik kontrol proses statistik tetep ketat banget, saéngga bisa njamin reproducibilitas pasar sing ora bisa cocog. Geometri Custom, jerone kanthong lan saliyane saluran pendinginan kasedhiya kanthi kaping telung minggu, fabs agoki sing dhuwur lan campuran kanggo ngopoptalake tumpukan ruangan kabeh.

Kanthi nggabungake grafit anisotropik kelas donya kanthi waja sik Hermetis, operator sik semisoreks, cairan sis ing njero ICP nyedhiyakake lingkungan plasma sing dawa, nanging aktif nambah proses latitud lan aktif. Kanggo manufaktur piranti ngupayakake lumewidths linewidth, profil sing luwih kenceng lan biaya kepemilikan sing luwih murah, iku operator pilihan ing ngendi saben mikron, saben jam regane.