Produk

Wafer wafer etsa ICP Semicorex minangka solusi sampurna kanggo proses penanganan wafer suhu dhuwur kayata epitaxy lan MOCVD. Kanthi resistensi oksidasi suhu sing stabil lan dhuwur nganti 1600 ° C, operator kita njamin profil termal, pola aliran gas laminar, lan nyegah kontaminasi utawa panyebaran impurities.

Plat Carrier Etching ICP Semicorex minangka solusi sampurna kanggo nuntut penanganan wafer lan proses deposisi film tipis. Produk kita nyedhiyakake tahan panas lan karat sing unggul, malah keseragaman termal, lan pola aliran gas laminar. Kanthi lumahing sing resik lan alus, operator kita sampurna kanggo nangani wafer murni.

Wafer Wafer Semicorex kanggo Proses Etsa ICP minangka pilihan sing sampurna kanggo nuntut penanganan wafer lan proses deposisi film tipis. Produk kita nduweni ketahanan panas lan karat sing unggul, malah keseragaman termal, lan pola aliran gas laminar sing optimal kanggo asil sing konsisten lan dipercaya.

Pilih Sistem Etsa Plasma ICP Semicorex kanggo Proses PSS kanggo proses epitaksi lan MOCVD sing berkualitas tinggi. Prodhuk kita dirancang khusus kanggo proses kasebut, menehi tahan panas lan karat sing unggul. Kanthi lumahing sing resik lan alus, operator kita sampurna kanggo nangani wafer murni.

Semicorex's ICP Plasma Etching Plate nyedhiyakake tahan panas lan karat sing unggul kanggo penanganan wafer lan proses deposisi film tipis. Produk kita dirancang kanggo tahan suhu dhuwur lan reresik kimia sing kasar, njamin daya tahan lan umur dawa. Kanthi lumahing sing resik lan alus, operator kita sampurna kanggo nangani wafer murni.

Nggolek operator wafer sing dipercaya kanggo proses etsa? Ora katon luwih saka Semicorex Silicon Carbide ICP Etching Carrier. Produk kita dirancang kanggo tahan suhu dhuwur lan reresik kimia sing kasar, njamin daya tahan lan umur dawa. Kanthi lumahing sing resik lan alus, operator kita sampurna kanggo nangani wafer murni.