PBN Elektrostatik Chuck

Sifat Material sakaPBNChuck Elektrostatik

Rintangan Suhu Dhuwur lan Kekuwatan Dielektrik

IngPBNElectrostatic Chuck misuwur kanthi resistensi suhu dhuwur sing luar biasa, sawijining sifat sing penting ing proses manufaktur semikonduktor. Pyrolytic Boron Nitride (PBN), bahan sing digunakake ing konstruksi chuck, nuduhake resistivity sing luwih dhuwur tinimbang keramik sing umume digunakake, sing penting kanggo njaga gaya chuck Johnsen-Rahbek (J-R) nganti suhu 1050 ° C. Resistivitas dhuwur iki, ditambah karo kekuatan dielektrik sing dhuwur, mesthekake yen gangguan listrik bisa dicegah kanthi efektif sanajan ing panas sing kuat, saéngga nambah linuwih operasional chuck.

Thermal Uniformity lan Shock Resistance

Struktur kisi heksagonal PBN, disiapake liwat deposisi uap kimia ing suhu ngluwihi 1500 ° C, nyumbang kanggo keseragaman termal sing luar biasa lan tahan kejut. Unsur panas Kapadhetan dhuwur ingPBNElektrostatik Chuck mbisakake kanggo entuk wafer panas profil konsisten karo uniformity apik 1,1-1,5% ing suhu 600-800 ° C. Kajaba iku, chuck basis PBN nuduhake resistance kejut termal sing luar biasa lan massa termal sing luwih murah, saéngga bisa tekan 600 ° C kanthi kecepatan ramping kanthi cepet 23 ° C / detik tanpa risiko retak utawa delaminasi.

Pemanasan Multi-Zona sing bisa disesuaikan

Chuck Elektrostatik PBN bisa dikustomisasi banget, nampilake kemampuan pemanasan multi-zona sing ngidini kontrol suhu maksimal. Tingkat kustomisasi iki njamin saben chuck bisa disesuaikan kanggo nyukupi syarat khusus saka pelanggan individu, nyedhiyakake solusi sing fleksibel kanggo macem-macem aplikasi pangolahan semikonduktor.

Aplikasi sakaPBNChuck Elektrostatik

Implantasi Ion lan Penanganan Wafer

PBN Electrostatic Chuck minangka piranti penanganan wafer sing disenengi ing proses implantasi ion. Kemampuan kanggo nahan wafer ing suhu sing ngluwihi 1000 ° C ndadekake salah sawijining chuck elektrostatik sing paling serbaguna ing pasar. Versatility iki luwih ditingkatake kanthi kapasitas kanggo njaga wafer ing kisaran suhu sing nyenyet, amarga unsur pemanasan multizona kanthi kapadhetan dhuwur.

Implantasi Ion Silicon Carbide

Ing aplikasi tartamtu saka implantasi ion SiC, ingPBNElectrostatic Chuck nawakake solusi sregep kanggo tantangan panas wafer lan nangani. Kapabilitas dual-fungsi, sing kalebu pasukan chuck dhuwur, daya panas dhuwur, uniformity termal apik, lan respon cepet, dadi pilihan becik kanggo ngatasi syarat Komplek implantasi ion SiC.

Produksi Semikonduktor

Chuck Elektrostatik PBN nduweni peran kritis ing manufaktur semikonduktor, ing ngendi penanganan wafer sing tepat lan kontrol suhu penting. Resistensi kejut termal sing dhuwur lan kemampuan ramping suhu kanthi cepet nggawe cocog kanggo proses semikonduktor maju sing mbutuhake manajemen suhu sing ketat lan siklus termal kanthi cepet.