Pemanas MOCVD

Pemanas iki digawe nggunakake grafit kemurnian dhuwur, kanthi tingkat impurity dikontrol kanthi teliti nganti kurang saka 5 bagean saben yuta (ppm). Grafit kasebut banjur dilapisi karo deposisi uap kimia (CVD) silikon karbida (SiC), kanthi tingkat kemurnian ngluwihi 99,99995%. Kombinasi bahan iki menehi pemanas kanthi properti unik sing penting banget kanggo entuk kinerja optimal ing proses deposisi uap kimia logam-organik (MOCVD).

Salah sawijining fitur sing paling luar biasa saka Pemanas Semicorex MOCVD yaiku kemurnian kimia sing luar biasa. Inti grafit kemurnian dhuwur kanthi signifikan nyilikake introduksi rereged sajrone proses suhu dhuwur, njamin deposisi film tipis ultra-resik. Lapisan CVD SiC luwih ningkatake kemurnian iki, nyedhiyakake penghalang sing kuat marang interaksi kimia sing bisa kompromi integritas lapisan sing disimpen. Tingkat kemurnian kimia sing dhuwur iki penting kanggo ngasilake piranti semikonduktor kanthi kinerja lan linuwih sing unggul.

Menapa malih, mesin ingkang ndamel benter punika Highly mantep lan termal efisien, saged nahan kahanan termal nemen khas pangolahan MOCVD. Sifat-sifat SiC sing ana, kayata titik lebur sing dhuwur lan konduktivitas termal, nyumbang kanggo kemampuan pemanas kanggo ngatur lan nyebarake panas kanthi efisien. Efisiensi termal iki njamin pemanasan seragam ing substrate, sing penting kanggo entuk deposisi film homogen lan nyuda gradien termal sing bisa nyebabake cacat.

Konduktivitas listrik minangka area liyane ing ngendi Pemanas Semicorex MOCVD unggul. Inti grafit kemurnian dhuwur nyedhiyakake konduktivitas listrik sing apik, saéngga mesin pemanas bisa nangani beban listrik sing dhuwur kanthi gampang. Kapabilitas iki penting banget ing proses MOCVD sing mbutuhake kontrol sing tepat babagan suhu lan tingkat deposisi. Kemampuan pemanas kanggo njaga kinerja listrik sing stabil ing beban sing dhuwur njamin kahanan proses sing konsisten lan bisa direproduksi, sing penting kanggo manufaktur semikonduktor sing ngasilake dhuwur.

Lumahing warata pemanas dirancang kanthi tliti kanggo nyedhiyakake emisivitas sing luwih dhuwur menyang substrat, nambah efisiensi transfer panas radiasi. Fitur desain iki mesthekake yen substrate nampa pemanasan seragam, sing penting kanggo entuk film tipis sing berkualitas kanthi kekandelan lan sifat sing konsisten. Lumahing emisivitas sing dhuwur uga nyumbang kanggo efisiensi termal sakabèhé saka pemanas, nyuda konsumsi energi lan biaya operasional.

Ing babagan daya tahan, Pemanas Semicorex MOCVD nawakake ketahanan korosi sing luar biasa, ora bisa dioksidasi, lan kekuatan mekanik sing dhuwur. Lapisan CVD SiC nyedhiyakake lapisan protèktif sing kuat sing tahan gas korosif lan bahan kimia sing umum ditemoni ing proses MOCVD. Resistance korosi iki ngluwihi umur operasional pemanas, nyuda biaya pangopènan lan panggantos. Inoxidizability pemanas mesthekake yen tetep stabil lan ora ngrusak sanajan ing suhu dhuwur, njaga kinerja lan integritas struktural sajrone wektu operasional sing dawa.

Pungkasan, kekuwatan mekanik sing dhuwur ing pemanas njamin bisa tahan tekanan fisik sing ana gandhengane karo siklus termal lan penanganan substrat. Kekuwatan iki nyuda resiko kegagalan mekanik, njamin operasi sing dipercaya lan terus-terusan.