Perahu Wafer Kuarsa Horisontal

Kapal wafer kuarsa horisontalbiasa nahan wafer semikonduktor horisontal ing tabung tungku peralatan perawatan panas, digawe panas dening piranti panas njaba. Iki digunakake kanthi akeh kanggo nuntut proses perawatan panas semikonduktor korosif suhu dhuwur, kayata oksidasi termal, difusi suhu dhuwur, anil, lan proses deposisi uap kimia (CVD).

Fungsi kapal wafer kuarsa Semicorex horizontal

1. Stabil nyekeli lan ngamanake

Kapal wafer kuarsa semicorex horisontal duwe kapasitas beban beban sing apik lan bisa terus menehi dhukungan sing stabil kanggo macem-macem wafer semikonduktor. Lan desain external optimized lan sabenere struktur slot njamin sabenwaferdipasang kanthi apik lan diamanake kanthi kuat ing kapal wafer kuarsa horisontal, sing nyuda goresan wafer lan tabrakan sing disebabake goyang, pamindahan, lan miring sajrone proses transportasi lan manufaktur.

2. Proses bantuan keseragaman

Struktur slot slot sing padha karo kapal wafer kuarsa horisontal ngidini penempatan tertib wafer semikonduktor, saéngga nggawe lapangan aliran gas sing stabil lan lancar ing tungku suhu dhuwur. Desain struktural entuk kontak gas sing konsisten lan tingkat reaksi ing saben permukaan wafer, saéngga bisa nyuda macem-macem cacat sing disebabake dening pemanasan sing ora rata lan kontak gas diferensial, kayata oksidasi wafer sing ora lengkap, deposisi film tipis sing ora rata, lan panyimpangan konsentrasi doping.

3. Long-tahan urip layanan

Thanks kanggo resistensi suhu dhuwur saka bahan kuarsa, kapal wafer kuarsa Semicorex horisontal bisa tahan suhu dhuwur 1100-1200 ℃ suwene tanpa deformasi utawa leleh.Kuarsaiku inert kimia kanggo gas sing umum digunakake ing proses semikonduktor, kayata oksigen, nitrogen, lan hidrogen klorida. Inertness kimia sing luar biasa iki bisa nyilikake risiko karat saka gas proses, ndawakake umur layanan lan nyuda wektu lan biaya panggantos peralatan.