Grafis Crucibles

Semikoreks grafit grafit minangka komponen kritis ing proses manufaktur semikonduktor, utamane sajrone tahap pertumbuhan kristal. Kontaner kinerja dhuwur iki kanggo nahan kahanan sing ekstrem sing dibutuhake kanggo ngasilake kristal silikon utawa senyawa sing dhuwur utawa proses czochralski (flo).

Fungsi utama Crucible grafit yaiku tahan lan ndhukung suhu sing dhuwur banget, biasane ing ndhuwur 2000 ° C, ing ngendi bahan semikonduktor generasi kayata silikon karetida asring disintesis. Crucible digawe saka grafit sing gedhe-gedhe nuduhake resistensi sing apik banget kanggo suhu sing dhuwur lan kimia ing tingkat sing ekstrem ing tingkat bosok utawa metamorfosis. Konduksi termal sing apik dening crucatan grafit tegese ora mung bakal nindakake kanthi seragam panas nanging uga nyiyapake lapangan suhu sing stabil. Iki bakal main ing sajrone proses leleh lan kristalisasi wiwit distribusi suhu seragam bakal ngidini materi wutah ing kahanan wutah ing ngisor kahanan kristal, saéngga nyuda kristal semikonduktor sing luwih murah lan ngidini kristal semikonduktor.

Ing proses wutah karbida utawa gallium nitride nitride (kayata fase epo epitexy CVD utawa Pengangkutan Pariwara Fisik), Crucible grafit digunakake kanggo nyekel lingkungan mentah sing dikontrol. Kimia inertness saka caket njamin manawa ora ana reaksi kimia karo materi semikonduktor ing suhu sing dhuwur, saengga njaga kemurnian saka materi. Ing wektu sing padha, konduktivitas termal apik saka grafil amarga mbentuk gradient suhu seragam, nyedhiyakake kahanan sing cocog kanggo tuwuh kristal lan cacat struktural.

Publawan kimia saka kimia crucible grafis minangka fitur penting ing pemberontakan bahan semikonduktor. Bahan grafit sing dhuwur banget bisa ngonfirmasi polusi eksternal lan nyegah impurities saka mlebu materi semikonduktor molten. Lumahing grafit Craya uga bisa dilapisi (kayata lapisan karbida silikon) kanggo ningkatake resistensi oksidasi lan resistensi karat, luwih stabilitas proses produksi.