Susceptor dilapisi CVD TAC

Ing sistem MOCVD, para supus yaiku platform inti sing diselehake ing wafir sing diselehake sajrone wutah epitaksal. Iki kritis kanggo kontrol suhu sing akurat, stabilitas kimia, lan stabilitas mekanik ing gas reaktif dikendhaleni suhu suhu ndhuwur 1200 ° C. Susceptor dilapisi Semikorex CVD bisa ngrampungake kanthi nggabungake kanthi nggabungake landasan grafit kanthi kanthi kandhel, seragamlapisan tantalum karbida (Tac)Digawe liwat pendekatan uap kimia (CVD).

Kualitas Tac kalebu kekerasan luar biasa, tahan karat, lan stabilitas termal. Tac duwe titik leleh luwih saka 3800 ° C, lan kaya sing beda karo bahan sing paling tahan suhu saiki, sing cocog kanggo digunakake ing reaktor mocvd, w

Prekursor IT sing bisa uga luwih panas lan corrosive banget. ThePelapisan Tac CVDNyedhiyakake alangan pelindung ing antarane para ucuhan grafit lan gas reaktif, umpamane amonia (nh₃), lan reaktif, prekursor logam-organik. Pelapisan nyegah nyuda kimia landasan grafit, pembentukan partikel ing lingkungan sing deposisi, lan penyebaran saka reged menyang film sing setor. Tumindak kasebut kritis kanggo film, epitacial, amarga bisa uga kualitas film.

Pouch plastik plastik Dondhui kanggo kopi minangka pilihan kemasan profesional kanggo kopi kopi, sing kanthi tepat kanggo nyerep kelembapan, gampang kanggo ngoksidasi lan gampang ilang aroma ". Bahan kasebut digawe saka plastik komposit Barrier kanthi film multilayer, sing bisa ngisolake banyu, lan ngalangi mambu kopi lan ngilangake banyu sing nyiram ing kopi, lan ngilangake gamblokan Lan ngolok-olongan kopi paling apik (kacang kopi bisa disimpen kanggo 3-6 wulan, lan bubuk kopi bisa disimpen kanggo 1-3 wulan).

Eksperimen wis nuduhake manawa operator sing ditutupi timah nuduhake kompatibilitas sing apik banget ing proses mocvd gan biru tanpa menehi impurities. Kanthi pangaturan proses sing winates, Leds thukul nggunakake tamba para operator nampilake kinerja lan keseragaman sing dibandhingake karo wong-wong sing thukul nggunakake operator SIC konvensional. Mula, para operator sing dilapisi TAC-Coated duwe umur luwih dawa tinimbang para operator grafit grafit lan SIC ditutupi.

NggunakakeLathi (Tac) Tantalumbisa ngatasi cacat pinggir kristal lan nambah kualitas wutah kristal, nggawe teknologi inti kanggo entuk "wutah sing luwih cepet, luwih kandel lan luwih dawa." Panliten industri uga nuduhake manawa crucible grafit sing ditutupi tantalum bisa nggayuh pemanasan sing luwih seragam kanggo pambentukan kristal sing tunggal, mula bisa nyuda kemungkinan pembentukan polyCrystal ing pinggir kristal SIC.

Penyusuhan wafer yaiku komponen kritis kanggo nyiapake wafer lan pertumbuhan epitonduktur kelas III, kayata SIC, lan Gan. Umume operator wafer digawe saka grafit lan ditutupi SIC kanggo nglindhungi saka karat saka gas gas. Suhu suhu pertumbuhan Epitoxial saka 1100 nganti 1600 ° C, lan resistensi korosi saka lapisan pelindung penting kanggo umur dawa operator. Panliten wis nuduhake manawa tac corrodes kaping enem luwih alon tinimbang amonia suhu dhuwur lan luwih saka sepuluh kaping luwih alon ing hidrogen suhu dhuwur.

Susceptor dilapisi CVD bisa disesuaikan kanggo cocog karo macem-macem konfigurasi reaktor mocvd, kalebu sistem horisontal, vertikal, lan planet.  Kustomisasi kalebu kekandelan peletis, landasan, lan geometri, saéngga optimisasi gumantung saka proses proses.  Apa gan, Algan, Ingan utawa kanggo bahan semikonduktor liyane, susceptor menehi kinerja sing stabil lan bisa diulang, loro kasebut kanggo pangolahan piranti kinerja dhuwur.

Pelapisan Tac nawakake daya tahan lan kemurnian sing luwih gedhe, nanging uga nguatake sifat mekanik saka para penyusunan kanthi resistensi kanggo deformasi termal saka stres termal bola-bali. Properti mekanik kasebut mesthekake dhukungan wafer lan imbangan muter nalika depepisi dawa mlaku.  Salajengipun, tambahan nggampangake reproducibilitas konsisten lan peralatan nganti nganti nganti entek.