Ngarep > Produk > Tungku CVD > Tungku Deposisi Uap Kimia CVD
Tungku Deposisi Uap Kimia CVD

Tungku Deposisi Uap Kimia CVD

Tungku Deposisi Uap Kimia Semicorex CVD nggawe produksi epitaksi berkualitas luwih efisien. Kita nyedhiyakake solusi tungku khusus. Tungku Deposisi Uap Kimia CVD duwe kauntungan rega sing apik lan nutupi sebagian besar pasar Eropa lan Amerika. We look nerusake kanggo dadi partner long-term ing China.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Tungku Deposisi Uap Kimia Semicorex CVD sing dirancang kanggo CVD lan CVI, digunakake kanggo nyimpen bahan menyang substrat. Suhu reaksi nganti 2200 ° C. Kontrol aliran massa lan katup modulasi koordinat reaktan lan gas pembawa kaya N, H, Ar, CO2, metana, silikon tetraklorida, metil trichlorosilane, lan amonia. Bahan sing disimpen kalebu silikon karbida, karbon pirolitik, boron nitrida, seng selenida, lan seng sulfida. Tungku Deposisi Uap Kimia CVD duwe struktur horisontal lan vertikal.


Aplikasi:Lapisan SiC kanggo bahan komposit C / C, lapisan SiC kanggo grafit, lapisan SiC, BN lan ZrC kanggo serat lan liya-liyane.


Fitur tungku Deposisi Uap Kimia Semicorex CVD

1. Desain sing kuat digawe saka bahan berkualitas tinggi kanggo panggunaan jangka panjang;

2. Pangiriman gas sing dikontrol kanthi tepat liwat panggunaan pengontrol aliran massa lan klep berkualitas tinggi;

3. Dilengkapi fitur safety kayata pangayoman over-suhu lan deteksi bocor gas kanggo operasi aman lan dipercaya;

4.Using sawetara zona kontrol suhu, uniformity suhu gedhe;

5. Kamar deposisi sing dirancang khusus kanthi efek sealing sing apik lan kinerja anti-kontaminasi sing apik;

6.Using sawetara saluran Deposition karo aliran gas seragam, tanpa deposition sudhut mati lan lumahing Deposition sampurna;

7. Nduwe perawatan kanggo tar, bledug padhet, lan gas organik sajrone proses deposisi


Spesifikasi CVD Furnace

Model

Ukuran Zona Kerja

(W × H × L) mm

Maks. Suhu (°C)

Suhu

Keseragaman (°C)

Vakum Ultimate (Pa)

Tingkat Kenaikan Tekanan (Pa/h)

LFH-6900-SiC

600×600×900

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFH-10015-SiC

1000×1000×1500

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFH-1220-SiC

1200×1200×2000

1500

± 10

1-100

0.67

LFH-1530-SiC

1500×1500×3000

1500

± 10

1-100

0.67

LFH-2535-SiC

2500×2000×3500

1500

± 10

1-100

0.67

LFV-D3050-SiC

Ï300×500

1500

±5

1-100

0.67

LFV-D6080-SiC

Ï600×800

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFV-D8120-SiC

Ï800×1200

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFV-D11-SiC

Ï1100×2000

1500

± 10

1-100

0.67

LFV-D26-SiC

Ï2600×3200

1500

± 10

1-100

0.67

* Parameter ing ndhuwur bisa disetel kanggo syarat proses, ora kaya standar sing ditampa, spesifikasi rinci. bakal kasebut ing proposal teknis lan persetujuan.




Hot Tags: Tungku Deposisi Uap Kimia CVD, China, Produsen, Pemasok, Pabrik, Disesuaikan, Massal, Lanjut, Awet

Kategori sing gegandhengan

Kirim Pitakonan

Mangga bebas menehi pitakon ing formulir ing ngisor iki. Kita bakal mangsuli sampeyan ing 24 jam.

Produk sing gegandhengan

We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept