- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Kabar Perusahaan
Proses Plasma ing Operasi CVD
Deposisi Uap Kimia (CVD) nuduhake teknologi proses ing ngendi pirang-pirang reaktan gas ing tekanan parsial sing beda-beda ngalami reaksi kimia ing kahanan suhu lan tekanan tartamtu. Zat padhet sing diasilake disimpen ing permukaan materi substrat, saéngga entuk film tipis sing dikarepake. Ing prose......
Waca liyane
Lapisan Epitaxial Silicon lan Substrat ing Manufaktur Semikonduktor
Ing bidang elektronik modern, optoelektronik, mikroelektronik, lan teknologi informasi, substrat semikonduktor lan teknologi epitaxial penting banget. Dheweke nyedhiyakake dhasar sing kuat kanggo nggawe piranti semikonduktor kanthi kinerja dhuwur lan linuwih. Nalika teknologi terus maju, substrat se......
Waca liyane
Perusahaan industrialisasi substrat Gallium Oksida 6 inci pisanan
Bubar, perusahaan kita ngumumake yen perusahaan wis sukses ngembangake kristal tunggal Gallium Oxide 6-inch nggunakake metode casting, dadi perusahaan industri domestik pisanan sing nguwasani teknologi persiapan substrat kristal tunggal Gallium Oxide 6-inch.
Waca liyane
Bahan isolasi medan termal
Proses wutah silikon monocrystalline biasane ana ing lapangan termal, ing ngendi kualitas lingkungan termal mengaruhi kualitas kristal lan efisiensi pertumbuhan. Desain lapangan termal nduweni peran penting kanggo mbentuk gradien suhu lan dinamika aliran gas ing ruang tungku. Salajengipun, bahan sin......
Waca liyane
