Kabar

TSMC: produksi uji coba risiko proses 2nm taun ngarep

Ing laporan taunan sing mentas dirilis, Ketua TSMC Deyin Liu lan CEO Chieh-Jia Wei ngumumake kemajuan sing ana gandhengane karo proses 2nm.

Skenario Aplikasi kanggo Lapisan Epitaxial

We ngerti sing lapisan epitaxial luwih kudu dibangun ing ndhuwur sawetara substrat wafer kanggo pabrikan piranti, biasane piranti LED cahya-emitting, kang mbutuhake lapisan epitaxial GaAs ing ndhuwur substrat Silicon; Lapisan epitaxial SiC ditanam ing ndhuwur substrat SiC konduktif kanggo piranti ba......

Ngrembug tungku CVD

China tetep dadi pasar peralatan semikonduktor paling gedhe

Penjualan peralatan manufaktur semikonduktor ing saindenging jagad mundhak 5 persen saka $ 102.6 milyar ing 2021 dadi rekor kabeh wektu $ 107.6 milyar taun kepungkur, SEMI, asosiasi industri sing makili desain elektronik global lan rantai pasokan manufaktur.

Proses CVD kanggo epitaksi wafer SiC

Proses CVD kanggo epitaksi wafer SiC nyakup deposisi film SiC menyang substrat SiC nggunakake reaksi fase gas. Gas prekursor SiC, biasane methyltrichlorosilane (MTS) lan etilena (C2H4), dilebokake menyang kamar reaksi ing ngendi substrat SiC dipanasake nganti temperatur dhuwur (biasane antarane 1400......

Jepang bubar mbatesi ekspor 23 jinis peralatan manufaktur semikonduktor

Jepang bubar mbatesi ekspor 23 jinis peralatan manufaktur semikonduktor. Pengumuman kasebut wis ngirim ripples ing industri, amarga pamindhahan kasebut bakal duwe pengaruh sing signifikan ing rantai pasokan global kanggo manufaktur semikonduktor.