Ngrembug tungku CVD

Apa iku apawon CVD?

Tungku CVD (Chemical Vapor Deposition) minangka jinis tungku sing digunakake ing industri semikonduktor kanggo nyimpen film tipis saka macem-macem bahan menyang substrat. Proses kasebut ditindakake ing vakum utawa lingkungan tekanan rendah, nggunakake gas reaktif sing bereaksi karo bahan substrat kanggo mbentuk film tipis sing dikarepake. Tungku CVD minangka alat kritis kanggo ngasilake microchip, sel surya, lan piranti elektronik liyane.

Kepiye cara tungku CVD?

pawon CVDdianggo dening nggawe lingkungan kurang-meksa nang kamar lan ngenalke gas reaktif menyang kamar. Gas kasebut bereaksi karo materi substrat lan mbentuk film tipis ing permukaan substrat. Proses kasebut ditindakake ing suhu dhuwur, biasane antarane 500 ° C nganti 1200 ° C, gumantung saka jinis materi sing disimpen.

Bahan substrate diselehake ing jero ruangan tungku, lan kamar kasebut disegel. Gas reaktif banjur dilebokake ing kamar lan digawe panas nganti suhu dhuwur. Molekul gas bereaksi karo materi substrat, lan produk sing diasilake mbentuk film tipis ing permukaan substrat.

Apa aplikasi tungku CVD?

pawon CVDnduweni macem-macem aplikasi ing industri semikonduktor, kalebu:

1. Deposisi silikon dioksida, silikon nitrida, lan bahan dielektrik liyane sing digunakake ing fabrikasi microchip.

2. Deposisi polysilicon lan bahan konduktif liyane sing digunakake ing produksi microchips.

3.Deposisi film logam, kayata aluminium lan tembaga, digunakake ing interconnects antarane lapisan beda saka microchip.

4. Deposisi film tipis kanggo produksi sel surya.

5. Deposisi lapisan kanggo produksi bagean lan alat sing tahan nyandhang.

Kesimpulane,pawon CVDminangka alat kritis kanggo industri semikonduktor, mbisakake produksi microchip, sel surya, lan piranti elektronik liyane. Kerjane kanthi nggawe lingkungan tekanan rendah ing jero ruangan lan ngenalake gas reaktif sing bereaksi karo materi substrat kanggo mbentuk film tipis. Aplikasi kasebut jembar lan maneka warna, dadi alat sing penting kanggo teknologi modern.