Lapisan Epitaxial Silicon lan Substrat ing Manufaktur Semikonduktor

Substrat

Ing proses manufaktur semikonduktor, lapisan epitaxial silikon lan substrat minangka rong komponen dhasar sing nduwe peran penting.Substrat kasebut, utamané digawe saka silikon kristal tunggal, serves minangka dhasar kanggo manufaktur chip semikonduktor. Bisa langsung mlebu aliran fabrikasi wafer kanggo ngasilake piranti semikonduktor utawa diproses luwih lanjut liwat teknik epitaxial kanggo nggawe wafer epitaxial. Minangka "dasar" dhasar saka struktur semikonduktor,substratenjamin integritas struktural, nyegah fraktur utawa karusakan. Kajaba iku, substrat nduweni sifat listrik, optik, lan mekanik sing penting kanggo kinerja semikonduktor.

Yen sirkuit terpadu diibaratake gedung pencakar langit, banjursubstrateiku temtu pondasi stabil. Kanggo mesthekake peran sing ndhukung, bahan kasebut kudu nuduhake tingkat keseragaman sing dhuwur ing struktur kristal, padha karo silikon kristal tunggal sing kemurnian dhuwur. Kemurnian lan kasampurnan minangka dhasar kanggo mbangun pondasi sing kuat. Mung kanthi basis sing padhet lan dipercaya bisa struktur ndhuwur dadi stabil lan tanpa cacat. Cukup, tanpa cocogsubstrate, ora bisa mbangun piranti semikonduktor sing stabil lan apik.

Epitaksi

Epitaksinuduhake proses sabenere tuwuh lapisan siji-kristal anyar ing meticulously Cut lan polesan siji-kristal substrate. Lapisan anyar iki bisa uga saka bahan sing padha karo substrat (epitaksi homogen) utawa beda (epitaksi heterogen). Wiwit lapisan kristal anyar strictly nderek extension saka phase kristal landasan kang, iku dikenal minangka lapisan epitaxial, biasane maintained ing kekandelan micrometer-tingkat. Contone, ing silikonepitaksi, wutah dumadi ing orientasi crystallographic tartamtu saka asubstrat silikon kristal tunggal, mbentuk lapisan kristal anyar sing konsisten ing orientasi nanging beda-beda ing resistivity listrik lan kekandelan, lan nduweni struktur kisi sampurna. Substrat sing wis ngalami pertumbuhan epitaxial diarani wafer epitaxial, kanthi lapisan epitaxial minangka nilai inti ing sekitar pabrikan piranti kasebut.

Nilai saka wafer epitaxial dumunung ing kombinasi akale saka bahan. Contone, kanthi tuwuh lapisan tipis sakaEpitaksi GaNing kurang larangwafer silikon, iku bisa kanggo entuk kinerja dhuwur-bandgap karakteristik saka semikonduktor generasi katelu ing biaya relatif murah nggunakake bahan semikonduktor generasi pisanan minangka landasan. Nanging, struktur epitaxial heterogen uga menehi tantangan kayata mismatch kisi, inkonsistensi ing koefisien termal, lan konduktivitas termal sing kurang, padha karo nyetel scaffolding ing basis plastik. Bahan sing beda-beda nggedhekake lan ngempet ing tingkat sing beda nalika suhu owah, lan konduktivitas termal silikon ora becik.

Homogenepitaksi, sing tuwuh lapisan epitaxial saka materi sing padha karo substrat, penting kanggo nambah stabilitas lan linuwih produk. Senajan bahan padha, Processing epitaxial Ngartekno nambah kemurnian lan uniformity saka lumahing wafer dibandhingake wafer mechanically polesan. Lumahing epitaxial luwih alus lan luwih resik, kanthi cacat mikro lan impurities sing dikurangi sacara signifikan, resistivity listrik sing luwih seragam, lan kontrol sing luwih tepat marang partikel permukaan, kesalahan lapisan, lan dislokasi. Mangkono,epitaksiora mung ngoptimalake kinerja produk nanging uga njamin stabilitas lan linuwih produk.**

Semicorex nawakake substrat berkualitas tinggi lan wafer epitaxial. Yen sampeyan duwe pitakon utawa butuh rincian tambahan, aja ragu-ragu hubungi kita.

Kontak telpon # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com