Apa Etching Plasma Suhu Rendah?

Plasma minangka kahanan papat materi, lan nduweni peran penting ing aplikasi industri lan fenomena alam. Contone, plasma ana ing kilat lan diasilake akeh banget ing permukaan srengenge, ing ngendi suhu inti tekan 13.500 ° C. Plasma suhu dhuwur iki ora cocog kanggo umume proses produksi industri.

Ing sisih liya, plasma suhu rendah minangka wangun plasma sing digawe kanthi artifisial sing nggunakake energi, tinimbang panas, kanggo nyepetake reaksi kimia. Suhu biasane beda-beda saka suhu kamar nganti pirang-pirang atus derajat Celsius, saengga efektif banget kanggo macem-macem aplikasi.

Langkah-langkah kanggo Nggawe Plasma Tiruan:

1. Ngurangi Tekanan ing Kamar: Miwiti kanthi nggunakake pompa vakum kanggo nyuda tekanan ing rongga. Tekan tekanan rendah penting kanggo nyetabilake plasma lan nggampangake ionisasi gas.

2. Introduce Proses Gas: Inject gas proses tartamtu menyang growong. Gas-gas iki minangka sumber utama partikel ing plasma.

3. Bungah Plasma: Aplikasi daya kanggo ionize gas, èfèktif mbentuk plasma.

4. Mateni Plasma lan Mulihake Tekanan Atmosfer: Sawise reaksi sing dikarepake rampung, mateni plasma lan bali kamar menyang tekanan atmosfer.

Aplikasi Plasma Suhu Rendah ing Pabrik Semikonduktor:

Plasma suhu rendah penting banget ing manufaktur semikonduktor, nglayani fungsi kritis ing etsa garing, deposisi uap fisik (PVD), deposisi uap kimia (CVD), deposisi lapisan atom (ALD), implantasi ion, abu, lan deteksi titik pungkasan. Versatility lan efisiensi ndadekake alat dhasar ing industri.

nawakake Semicorexsolusi kualitas dhuwur kanggo etsa plasma. Yen sampeyan duwe pitakon utawa butuh rincian tambahan, aja ragu-ragu hubungi kita.

Kontak telpon # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com